Clasificación por deposición química de vapor
Existen muchos métodos de deposición química de vapor, tales como CVD a presión atmosférica (APCVD), CVD de baja presión (LPCVD), CVD de ultra alto vacío (UHVCVD), deposición química por láser de vapor químico por láser (LCVD), deposición de vapor químico metal-orgánico (MOCVD) , deposición química de vapor mejorada por plasma (PECVD), etc.